品牌: PfeifferVacuum 型號(hào): hicube80 德國(guó)進(jìn)口PfeifferVacuum分子泵組HiCube80應(yīng)用于脈沖激光沉積系統(tǒng)(PulsedLaserDeposition,PLD) 伯東公司代理的德國(guó)Pfeiffer分子泵組HiCube80廣泛用于脈沖激光沉積系統(tǒng)(PulsedLaserDeposition,PLD) PfeifferVacuum真空泵組HiCube80由HiPace80,MVP015-2,TPS110,DCU002組成;具有體積?。ǔ叽?長(zhǎng)寬高301*325*135mm）,模塊化設(shè)計(jì),便攜式,前級(jí)泵為干泵（隔膜泵）,真空度能達(dá)到1.10-7mbar等優(yōu)點(diǎn). 進(jìn)口PLD（脈沖激光沉積）系統(tǒng)使用HiCube80 脈沖激光沉積（PulsedLaserDeposition,PLD）,是一種利用激光對(duì)物體進(jìn)行轟擊,然后將轟擊出來(lái)的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上,得到沉淀或者薄膜的一種手段.PLD系統(tǒng)由多個(gè)真空腔體組成,整個(gè)系統(tǒng)需要超高真空;由于各個(gè)輔助腔體,體積小,因此使用HiCube80真空泵組非常實(shí)用. 該P(yáng)LD系統(tǒng)用到德國(guó)Pfeiffer真空泵數(shù)量: 1. HiCube80*7 2. Hipace300*2 該脈沖激光沉積系統(tǒng)基本規(guī)格: 1.系統(tǒng)功能：主要用于制備有機(jī)自旋閥器件，還可用于制備有機(jī)發(fā)光二極管、太陽(yáng)能電池等器件 2.真空度要求:真空度 3x10-10mbar 3.樣品尺寸：直徑2 4.基板加熱溫度：1000度 5.鍍膜方式：EffusionCell/PlasmaCell 6.膜生長(zhǎng)控制模式：鍍率/厚度/時(shí)間控制模式 伯東公司主要經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品德國(guó)Pfeiffer渦輪分子泵,干式真空泵,羅茨真空泵,旋片真空泵;應(yīng)用于各種條件下的真空測(cè)量(真