詳細(xì)介紹： 平面平晶技術(shù)要求：1.測(cè)量面平面度誤差：1級(jí)小于0.03 m；2級(jí)小于0.10 m2.平行度誤差小于0.20 m3.外徑30mm4.厚度：12.00mm、12.12mm、12.25mm、12.37mm 四件套平行平晶：可用于檢測(cè)千分尺兩相對(duì)測(cè)量面的平行度誤差，分別用于測(cè)量0度、90度、180度、270度等四個(gè)方向的偏差值規(guī)格:ф30,ф45,ф60. 平面平晶特性：產(chǎn)品分單面、雙面、平行三類，可用于不同場(chǎng)合?？蓹z測(cè)精密平面的平面度、平行度一級(jí)平晶的平面度誤差不大于0.03 m；二級(jí)平晶的平面度誤差不大于0.10 m千分尺專用平晶四件套裝 平面平晶的原理： 1.平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。平面平晶、平行平晶及各種光學(xué)零部件，能夠承擔(dān)各種高精度光學(xué)平面零件及光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)樣板的設(shè)計(jì)和加工。2.平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。 組別兩工作面的平行度工作面的平面度2/3d范圍內(nèi)的平面度I、II0.60.10.05III0.80.10.05IV1.00.10.05 平面直徑d(mm)基本參數(shù)1級(jí)價(jià)格2級(jí)d范圍內(nèi)2/3d范圍內(nèi)d范圍內(nèi)2/3d范圍內(nèi)300.03----2200.10.054526060300800.050.03460 10090015040002000.080.0592000.120.062500.10.05184000.150.083000.150.09550000.20.1 詳細(xì)介紹： 平面平晶技術(shù)要求：1.測(cè)量面平面度誤差：1級(jí)小于0.03 m；2級(jí)小于0.10 m2.平行度誤差小于0.20 m3.外徑30mm4.厚度：12.00mm、12.12mm、12.25mm、12.37mm 四件套平行平晶：可用于檢測(cè)千分尺兩相對(duì)測(cè)量面的平行度誤差，分別用于測(cè)量0度、90度、180度、270度等四個(gè)方向的偏差值規(guī)格:ф30,ф45,ф60. 平面平晶特性：產(chǎn)品分單面、雙面、平行三類，可用于不同場(chǎng)合?？蓹z測(cè)精密平面的平面度、平行度一級(jí)平晶的平面度誤差不大于0.03 m；二級(jí)平晶的平面度誤差不大于0.10 m千分尺專用平晶四件套裝 平面平晶的原理： 1.平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。平面平晶、平行平晶及各種光學(xué)零部件，能夠承擔(dān)各種高精度光學(xué)平面零件及光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)樣板的設(shè)計(jì)和加工。2.平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。詳細(xì)介紹： 平面平晶技術(shù)要求：1.測(cè)量面平面度誤差：1級(jí)小于0.03 m；2級(jí)小于0.10 m2.平行度誤差小于0.20 m3.外徑30mm4.厚度：12.00mm、12.12mm、12.25mm、12.37mm 四件套平行平晶：可用于檢測(cè)千分尺兩相對(duì)測(cè)量面的平行度誤差，分別用于測(cè)量0度、90度、180度、270度等四個(gè)方向的偏差值規(guī)格:ф30,ф45,ф60. 平面平晶特性：產(chǎn)品分單面、雙面、平行三類，可用于不同場(chǎng)合。可檢測(cè)精密平面的平面度、平行度一級(jí)平晶的平面度誤差不大于0.03 m；二級(jí)平晶的平面度誤差不大于0.10 m千分尺專用平晶四件套裝 平面平晶的原理： 1.平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。平面平晶、平行平晶及各種光學(xué)零部件，能夠承擔(dān)各種高精度光學(xué)平面零件及光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)樣板的設(shè)計(jì)和加工。2.平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。詳細(xì)介紹： 平面平晶技術(shù)要求：1.測(cè)量面平面度誤差：1級(jí)小于0.03 m；2級(jí)小于0.10 m2.平行度誤差小于0.20 m3.外徑30mm4.厚度：12.00mm、12.12mm、12.25mm、12.37mm 四件套平行平晶：可用于檢測(cè)千分尺兩相對(duì)測(cè)量面的平行度誤差，分別用于測(cè)量0度、90度、180度、270度等四個(gè)方向的偏差值規(guī)格:ф30,ф45,ф60. 平面平晶特性：產(chǎn)品分單面、雙面、平行三類，可用于不同場(chǎng)合?？蓹z測(cè)精密平面的平面度、平行度一級(jí)平晶的平面度誤差不大于0.03 m；二級(jí)平晶的平面度誤差不大于0.10 m千分尺專用平晶四件套裝 平面平晶的原理： 1.平面平晶用于檢定量塊的研合性和平面度以儀器和量具的測(cè)量面、工作面的平面度。亦可用于檢定高精度的平面零件，例如，平面光學(xué)零件、高級(jí)平臺(tái)、平板、導(dǎo)軌、密封件等。平面平晶特別適用于計(jì)量單位、實(shí)驗(yàn)室作為標(biāo)準(zhǔn)平面和樣板。平面平晶、平行平晶及各種光學(xué)零部件，能夠承擔(dān)各種高精度光學(xué)平面零件及光學(xué)標(biāo)準(zhǔn)樣板的設(shè)計(jì)和加工。2.平面平晶是以光波干涉原理為基礎(chǔ)，利用平晶的測(cè)量面與試件的被測(cè)量面之間所出現(xiàn)的干涉條紋來(lái)測(cè)量被測(cè)量面的平面度。