光刻膠配方技術(shù)生產(chǎn)制備工藝專利大全01、化學(xué)放大正性光刻膠組合物02、化學(xué)增強(qiáng)型光刻膠組合物03、光刻膠組合物04、去除光刻膠的方法以及再生光刻膠的方法05、適用于產(chǎn)酸物的樹脂和含有該樹脂的化學(xué)放大正性光刻膠組合物06、光刻膠保護(hù)膜形成用材料以及使用該材料的光刻膠圖案形成方法07、用于光刻膠的抗反射組合物08、光刻膠聚合物、光刻膠組合物及制造半導(dǎo)體裝置的方法09、光刻膠單體及其聚合物以及包含該光刻膠聚合物的光刻膠組合物10、光刻膠組合物,薄膜圖案形成方法、TFT陣列面板制造方法11、用于深紫外的光刻膠組合物及其工藝12、用于光刻膠的阻擋涂敷組合物及使用該組合物形成光刻膠圖形的方法13、光刻膠組合物和使用方法14、光刻膠液制備方法及使用該光刻膠液的光刻膠膜15、具有多環(huán)內(nèi)脂結(jié)構(gòu)單元的聚合物在深紫外光刻膠中的應(yīng)用16、浸液曝光用正型光刻膠組成物及光刻膠圖案的形成方法17、包含具有螺環(huán)縮酮基團(tuán)的單體的光刻膠聚合物及其組合物18、制備化學(xué)放大正性光刻膠用樹脂的方法19、用于形成液浸曝光工藝用光刻膠保護(hù)膜的材料、以及使用該保護(hù)膜的光刻膠圖案形成方法20、含硅偶聯(lián)劑的193nm光刻膠及其成膜樹脂21、光刻膠稀釋劑的制造方法22、含硅193nm負(fù)性光刻膠及其成膜樹脂23、光刻膠組合物24、光刻膠聚合物組合物25、增強(qiáng)光刻膠黏性的無定形碳層26、微光刻技術(shù)用光刻膠組合物中的溶解抑制劑27、正型光刻膠組合物及光刻膠圖案形成方法28、193nm遠(yuǎn)紫外光刻膠及其制備方法29、用于改進(jìn)臨界尺寸計(jì)算中使用的光刻膠模型的校準(zhǔn)的方法、程序產(chǎn)品以及設(shè)備30、包括金剛形烴衍生物的光刻膠組合物31、用于從襯底去除光刻膠的方法和設(shè)備32、深紫外正性光刻膠及其成膜樹脂33、含有樹脂摻合物的光刻膠組合物34、正型光刻膠組合物及形成光刻膠圖案的方法35、化學(xué)放大型正光刻膠組合物，(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制備方法36、含硅偶聯(lián)劑的共聚物成膜樹脂及其193nm光刻膠37、從光刻膠和/或剝離液中回收有機(jī)化合物的方法38、光刻膠成膜樹脂制備中的聚合物選擇水解方法39、使用光刻膠層來形成多重導(dǎo)線連接的方法40、涂布膜的加熱裝置和光刻膠的處理裝置41、光敏聚合物及含有該聚合物的化學(xué)擴(kuò)增的光刻膠組合物42、光刻膠用抗反射組合物43、改善蝕刻后光刻膠殘余的半導(dǎo)體器件制造方法44、光刻膠保護(hù)膜用組合物、光刻膠保護(hù)膜及光刻膠圖形形成方法45、光刻膠的去除46、光刻膠涂覆設(shè)備及光刻膠涂覆方法47、用于去除光刻膠的組合物及利用該組合物形成圖案的方法48、采用負(fù)性光刻膠組合物形成電鍍產(chǎn)品的方法以及在該方法中使用的光敏組合物49、光刻膠涂覆裝置及其方法50、脫除襯底上光刻膠的方法51、光刻膠保護(hù)膜形成用材料以及使用該材料的光刻膠圖案的形成方法52、用疊層光刻膠犧牲層制備MEMS懸空結(jié)構(gòu)的方法53、用來與外涂的光刻膠一起使用的涂料組合物54、與外涂光刻膠一起使用的涂料組合物55、光刻膠去除劑組合物以及用該組合物形成布線結(jié)構(gòu)和制造薄膜晶體管基片的方法56、用于去除半導(dǎo)體器件的改性光刻膠的光刻膠去除劑組合物57、光刻膠液供給裝置及用于得到它的改造套件58、用于去除光刻膠的組合物59、用于涂覆光刻膠圖案的組合物60、利用具有熱流動(dòng)特性的負(fù)光刻膠層制造半導(dǎo)體的方法61、用于有機(jī)硅化物玻璃的一氧化二氮去除光刻膠的方法62、在光刻膠去除過程中最小化阻障材料損失的方法63、與外涂的光刻膠一起使用的涂層組合物64、利用具有碳層的傳輸掩模構(gòu)圖晶片上的光刻膠的方法65、光刻膠組合物、層壓材料、圖案形成方法和制造半導(dǎo)體器件的方法66、涂料組合物、抗反射膜、光刻膠及采用該光刻膠的圖形形成方法67、用于涂敷光刻膠的裝置和方法68、軟烘焙基板上的光刻膠的裝置和方法69、用于剝離光刻膠的組合物及薄膜晶體管陣列面板制造方法70、化學(xué)放大型光刻膠組合物71、使用具有多層ARC的反射掩模在晶片上圖案化光刻膠的方法72、利用衰減的相移掩模圖案化晶片上的光刻膠的方法73、與外涂光刻膠一起使用的涂料組合物74、化學(xué)放大型正型光刻膠組合物75、控制光刻膠組合物溶解速率差的方法76、用于光刻膠的感光樹脂組合物77、用于在制造半導(dǎo)體器件等中分配光刻膠的方法和設(shè)備78、氟代環(huán)烯烴聚合物及在深紫外類光刻膠中的應(yīng)用79、具有改善抗蝕性能的氟化光刻膠材料80、用于深UV的光刻膠組合物及其成像方法81、適合用來除去光刻膠、光刻膠副產(chǎn)物和蝕刻殘余物的組合物及其應(yīng)用82、光刻膠組合物及用它形成薄膜圖案的方法以及用它制備薄膜晶體管陣列板的方法83、雙層光刻膠干法顯影的方法和裝置84、交聯(lián)聚合物、有機(jī)抗反射涂層組合物及形成光刻膠圖案的方法85、含有包括氟磺酰胺基團(tuán)的聚合物的正型光刻膠組合物及其使用方法86、化學(xué)放大型正光刻膠組合物87、除去光刻膠和蝕刻殘?jiān)姆椒?8、包含縮醛和縮酮作為溶劑的光刻膠組合物89、光刻膠層中減小圖案尺寸的方法90、納米壓印光刻膠91、去除光刻膠和蝕刻殘留物的方法92、光刻膠膜除去裝置和光刻膠膜除去方法及有機(jī)物除去裝置和有機(jī)物除去方法93、光刻膠除去裝置和光刻膠除去方法94、稀釋劑組分及用其除去光刻膠的方法95、包含光活性化合物混合物的用于深紫外平版印刷的光刻膠組合物96、一種化學(xué)放大型正光刻膠組合物97、正性光刻膠的制作方法98、光刻膠剝離劑組合物99、用于液晶設(shè)備的正型光刻膠組合物100、聚合物和含有該聚合物的光刻膠101、氟化的硅-聚合物和包含該聚合物的光刻膠102、一種光刻膠涂敷裝置103、正型光刻膠組合物及光刻膠圖案形成方法104、磺酸鹽和光刻膠組合物105、用于涂布EUV平板印刷術(shù)基底的方法和具有光刻膠層的基底106、光刻膠靈敏度的評(píng)價(jià)方法和光刻膠的制造方法107、微石印術(shù)用光刻膠組合物中的光酸產(chǎn)生劑108、光刻膠修整方法109、正型光刻膠組合物及使用其形成光刻膠圖案的方法110、正型光刻膠組合物及光刻膠圖案形成方法111、化學(xué)放大型正光刻膠組合物及其樹脂112、光刻膠三維刻蝕過程模擬的動(dòng)態(tài)元胞自動(dòng)機(jī)方法113、適用作光刻膠的可紫外線固化的粉末114、負(fù)性深紫外光刻膠115、一種用于正性或負(fù)性光刻膠的清洗劑組合物116、帶有環(huán)狀縮酮保護(hù)基的含硅光刻膠體系117、包含添加劑用于深UV輻射的光刻膠組合物118、磺酸鹽和光刻膠組合物119、光刻膠圖案增厚材料，光刻膠圖案形成工藝和半導(dǎo)體器件制造工藝120、用于微型平板印刷術(shù)的多環(huán)含氟聚合物及光刻膠121、聚合物中的保護(hù)基,光刻膠及微細(xì)光刻的方法122、聚合物摻混物及其在用于微細(xì)光刻的光刻膠組合物中的應(yīng)用123、負(fù)性光刻膠樹脂涂布液及其制備方法124、光刻膠掩模及其制作方法125、光刻膠沉積設(shè)備以及使用該設(shè)備形成光刻膠薄膜的方法126、短波成像用溶劑和光刻膠組合物127、光刻膠脫膜組成物及使用該組成物的模型形成方法128、用于深紫外光刻術(shù)的光刻膠組合物129、襯底處理和光刻膠曝光方法130、光刻膠組合物、層壓材料、圖案形成方法和制造半導(dǎo)體器件的方法131、含有含多個(gè)酸不穩(wěn)定部分的側(cè)基團(tuán)的聚合物的光刻膠組合物132、微刻用光刻膠組合物中的溶解抑制劑133、適于光刻膠組合物的聚合物134、用于光刻膠的感光樹脂組合物135、集成電路制造技術(shù)中可消除光刻中光刻膠毒化的工藝136、化學(xué)放大型光刻膠組合物137、負(fù)作用水性光刻膠組合物138、化學(xué)放大型正光刻膠組合物139、光刻膠樹脂,化學(xué)增強(qiáng)光刻膠組合物及圖樣的形成方法140、氟化聚合物,光刻膠和用于顯微光刻的方法141、化學(xué)增強(qiáng)型正光刻膠組合物142、含有氧和硫脂環(huán)族單元的聚合物和包含該聚合物的光刻膠組合物143、用于光刻膠的抗反射涂料144、光刻膠組合物145、使用超臨界二氧化碳法從襯底上去除光刻膠及殘?jiān)?46、用于液晶設(shè)備的正型光刻膠組合物147、聚合物和含有該聚合物的光刻膠148、氟化的硅-聚合物和包含該聚合物的光刻膠149、一種光刻膠涂敷裝置150、正型光刻膠組合物及光刻膠圖案形成方法151、磺酸鹽和光刻膠組合物152、設(shè)計(jì)圖形、光掩模、光刻膠圖形及半導(dǎo)體器件的制造方法153、用于涂布EUV平板印刷術(shù)基底的方法和具有光刻膠層的基底154、光刻膠靈敏度的評(píng)價(jià)方法和光刻膠的制造方法155、微石印術(shù)用光刻膠組合物中的光酸產(chǎn)生劑156、光刻膠修整方法157、正型光刻膠組合物及使用其形成光刻膠圖案的方法158、光刻膠殘?jiān)コ齽?59、光刻膠膜去除方法及其所用裝置160、產(chǎn)生粒子少的光刻膠組合物的制造方法161、制造光活性化合物以及由其制造光刻膠的方法162、光刻膠洗滌組合物163、水溶性負(fù)性光刻膠組合物164、具有腈和脂環(huán)族離去基團(tuán)的共聚物和包含該共聚物的光刻膠組合物165、化學(xué)放大型正光刻膠組合物166、化學(xué)增強(qiáng)型正光刻膠組合物和锍鹽167、用于正性光刻膠的混合溶劑體系168、光刻膠及微平版印刷術(shù)169、化學(xué)放大型正光刻膠組合物170、經(jīng)分餾的線型酚醛清漆樹脂和由其得到的光刻膠組合物171、用于193納米波長(zhǎng)的正性光刻膠組合物172、化學(xué)放大型正光刻膠組合物173、化學(xué)增強(qiáng)型正光刻膠組合物和锍鹽174、含脂環(huán)族溶解抑制劑的正光刻膠組合物175、用于深紫外線光刻膠的防反射組合物176、環(huán)狀烯烴聚合物和添加劑的光刻膠組合物177、化學(xué)增強(qiáng)型正光刻膠組合物178、化學(xué)增強(qiáng)型光刻膠179、改善光刻膠耐刻蝕性的方法180、包含具有酸不穩(wěn)定側(cè)基的多環(huán)聚合物的光刻膠組合物181、含有環(huán)烯烴聚合物及疏水非甾族多脂環(huán)添加劑的光刻膠組合物182、環(huán)烯烴聚合物與疏水性非甾族脂環(huán)添加劑的光刻膠組合物183、含包括酸不穩(wěn)定側(cè)基的多環(huán)聚合物的光刻膠組合物184、用于多層光刻膠方法的熱固性聚酯防反射涂料185、用于高光敏度高抗蝕厚涂層i－線光刻膠的磺酰肟類186、一種化學(xué)增強(qiáng)型正光刻膠組合物187、包含新的光活性化合物的正性光刻膠188、用于光刻膠組合物的抗反射涂料組合物及其用途189、分級(jí)酚醛清漆樹脂共聚物以及由其得到的光刻膠組合物190、厚膜光刻膠的低溫金屬化制備方法191、含縮聚物的光刻膠組合物192、一種形成光刻膠圖形的方法193、在集成電路生產(chǎn)中清洗光刻膠的組合物194、光刻膠組合物,其制備方法和用其形成圖紋的方法195、正性光刻膠組合物的熱處理方法196、含2,4-二硝基-1-萘酚的正性光刻膠組合物197、光刻膠組合物用的水性抗反射涂料198、光敏樹脂組合物和用于生產(chǎn)印刷電路板的光刻膠油墨199、改善光刻膠耐蝕刻性的方法200、含有環(huán)烯烴聚合物及飽和甾族添加劑的光刻膠組合物201、光刻膠用剝離液組合物202、光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法203、用于深紫外線輻射的光刻膠組合物204、化學(xué)放大型正性光刻膠組合物205、化學(xué)增強(qiáng)光刻膠及一種光刻膠合成物206、光刻膠剝離劑組合物207、具有酸反應(yīng)性基團(tuán)的新穎含氟聚合物以及使用這些材料的化學(xué)增幅型光刻膠組合物208、光刻膠用剝離液和使用該剝離液的光刻膠剝離方法209、光刻膠去除劑混合物210、負(fù)作用化學(xué)放大的光刻膠組合物211、環(huán)狀锍和氧化锍及含有它們的光致酸生成劑和光刻膠212、光刻膠剝離組合物及清洗組合物