拋光劑、拋光液配方技術生產制備工藝專利大全01、交聯型環(huán)保汽車拋光劑的產業(yè)化生產 02、木質地板、家具護理用的拋光劑組合物 03、磷酸脂改性的地板拋光劑用乳膠 04、水基地板拋光劑用乳膠 05、硅藻土磨料拋光劑的制備方法 06、一種不銹鋼制品的化學拋光劑及其工藝 07、拋光劑及基片的拋光方法 08、拋光劑組合物 09、拋光劑及其制造方法以及拋光方法 10、拋光劑和生產平面層的方法 11、含氫氟酸的鋁型材酸性拋光劑 12、車用多功能一體化清潔拋光劑的制備及使用方法 13、聚合物作為家具拋光劑的應用 14、包括硅氧化物的微粒收集品和含有硅氧化物微粒分散體的拋光劑 15、一種化學拋光劑及其使用方法 16、含有一種由硅酸拋光劑和氧化鋁組成的拋光劑組合物的牙齒清潔劑 17、半導體基片用的拋光劑 18、白米拋光劑及其制備方法 19、納米二氧化硅拋光劑及其制備方法 20、拋光劑組合物 21、VCD光碟片拋光劑 22、含有酸-胺膠乳的水基拋光劑組合物 23、拋光劑 24、固體拋光劑 25、一種活性拋光劑及其制備方法 26、溶膠型硅片拋光劑 27、一種快速拋光劑 28、用于化學機械平坦化的多步拋光液 29、核/殼型納米粒子研磨劑拋光液組合物及其制備方法 30、拋光液和拋光有色金屬材料的方法 31、高介電材料鈦酸鍶鋇化學機械拋光用的納米拋光液 32、硫系相變材料化學機械拋光的無磨料拋光液及其應用 33、硫系化合物相變材料化學機械拋光的納米拋光液及其應用 34、一種水基納米金剛石拋光液及其制造方法 35、可選擇性阻隔金屬的拋光液 36、拋光液組合物 37、一種化學機械拋光液 38、化學拋光液 39、一種浮法拋光液膜厚度測量裝置 40、銅化學－機械拋光工藝用拋光液 41、超大規(guī)模集成電路多層銅布線中銅與鉭的化學機械全局平面化拋光液 42、超大規(guī)模集成電路多層銅布線用化學機械全局平面化拋光液 43、拋光液組合物 44、用于金屬和金屬氧化物的結構化處理的拋光液和方法 45、納米級拋光液及其制備方法 46、在半導體晶片化學機械拋光時輸送拋光液的系統(tǒng) 47、鋁型材拋光液無能耗簡易回收法 48、用于化學機械平面加工的含過氧化物拋光液的穩(wěn)定方法 49、不銹鋼拋光液 50、金屬表面拋光液 51、不銹鋼表面化學拋光液及化學拋光方法 52、用于不銹鋼表面化學拋光的拋光液和方法 53、拋光液 54、一種加氧化劑酸性硅溶膠拋光液的配制方法55、拋光組合物和使用該拋光組合物的拋光方法 56、化學機械拋光二氧化硅和氮化硅的組合物和方法 57、化學機械拋光組合物及有關的方法 58、拋光用組合物及拋光方法 59、拋光組合物和拋光方法 60、用于控制半導體晶片中金屬互連去除速率的拋光組合物 61、拋光組合物和拋光方法 62、用于銅的低下壓力拋光的組合物和方法 63、用于銅的受控拋光的組合物和方法 64、拋光組合物和拋光方法 65、用于拋光銅的組合物和方法 66、拋光組合物和拋光方法 67、拋光組合物 68、高速阻擋層拋光組合物 69、用于半導體晶片的拋光組合物 70、拋光組合物 71、用于拋光半導體層的組合物 72、拋光組合物 73、包括磺酸的CMP組合物和用于拋光貴金屬的方法 74、混合研磨劑拋光組合物及其使用方法 75、拋光液組合物 76、用于銅膜平面化的鈍化化學機械拋光組合物 77、磷酸脂改性的地板拋光劑用乳膠 78、水基地板拋光劑用乳膠 79、拋光組合物和清洗組合物 80、用于拋光金屬的組合物、金屬層的拋光方法以及生產晶片的方法 81、拋光和/或清潔銅互連和/或薄膜的方法及所用的組合物 82、拋光組合物 83、共聚物水乳液和多價金屬化合物之間的反應產物以及含有該產物的拋光組合物 84、用于金屬的化學機械拋光（CMP）的漿料及其使用 85、用于硅晶片二次拋光的淤漿組合物 86、地板用水合樹脂分散體以及使用這種水合樹脂分散體的地板拋光組合物 87、含導電聚合物的拋光組合物 88、金屬拋光組合物,使用組合物進行拋光的方法以及使用拋光方法來生產晶片的方法 89、拋光組合物和用于形成配線結構的方法 90、拋光組合物 91、金屬基板化學-機械拋光方法 92、金屬和金屬/電介質結構的化學機械拋光用組合物 93、拋光組合物 94、磁盤基材的拋光組合物和使用該組合物的拋光方法 95、拋光組合物 96、包括二氧化硅涂覆鈰土的拋光淤漿 97、用于金屬布線的化學機械拋光的漿液組合物 98、拋光組合物及使用它的拋光方法 99、化學機械拋光組合物及其相關方法 100、用于存儲器硬盤磁頭表面拋光的拋光組合物及其拋光方法 101、含水涂料組合物和地板拋光組合物 102、拋光組合物中有機硅表面活性劑的使用 103、拋光組合物及使用它的拋光方法 104、拋光存儲器硬盤用基片的拋光組合物及拋光方法 105、拋光工具 106、拋光組合物及用該拋光組合物拋光后的磁記錄盤基片 107、拋光組合物和拋光方法 108、用于CMP的含硅烷的拋光組合物 109、金屬CMP用的拋光組合物及拋光基材的方法 110、拋光組合物 111、磁盤基板拋光用組合物及其生產方法 112、制造存儲器硬盤用的拋光組合物和拋光方法 113、用于拋光磁記錄盤基體的磨料組合物 114、拋光研磨用的研磨油組合物 115、拋光或平滑化基體的方法 116、化學-機械拋光方法 117、含有阻化化合物的拋光系統(tǒng)及其使用方法 118、化學機械拋光系統(tǒng)及其使用方法 119、含硅烷改性研磨顆粒的化學機械拋光(CMP)組合物 120、用于化學機械拋光的組合物 121、用于鈦的電解拋光的電解液組合物及其使用方法 123、含有含硅共聚物和纖維的自拋光性海洋防污漆組合物 124、鋁或鋁合金導電材料層的機械化學拋光方法 125、用于低介電常數材料的氧化拋光淤漿 126、化學機械拋光中用于減少有圖案金屬凹陷的組合物和方法 127、銅基材料表層的機械化學拋光方法 128、化學機械拋光漿料和其使用方法 129、拋光組合物和表面處理組合物 130、拋光方法 131、拋光組合物的用途和拋光存儲器硬盤的方法 132、邊拋光組合物 133、拋光和刨平表面用的組合物和方法 134、包括鎢侵蝕抑制劑的拋光組合物 135、半導體或絕緣材料層的機械-化學新拋光方法 136、用于化學機械拋光的多氧化劑漿料 137、用于拋光半導體基材上的金屬層的磨料組合物及其用途 138、改進的拋光漿料和其使用方法 139、活性拋光組合物及其制備方法 140、改良的拋光組合物和拋光方法 141、拋光和刨平表面用的組合物和方法 142、打磨拋光的砂輪組合物 143、拋光方法和組合物 144、石材研磨或拋光用組合物及其制造方法