操作壓力	3（Mpa）	水電阻率	5-18.25兆歐
出水量	1-100t/h	外形尺寸	設(shè)計(jì)而定（cm）
電壓	380（V）	水質(zhì)	高純水
功率	設(shè)計(jì)而定（w）	電導(dǎo)率	10us/cm
脫鹽率	99.99（%）	單機(jī)出力	1-100t（/h）

EDI裝置的工作原理自來(lái)水中常含有鈉、鈣、鎂、氯、硝酸鹽、硅等溶解鹽。這些鹽是由負(fù)電離子（負(fù)離子）和正電離子（正離子）組成。反滲透可以除去其中超過(guò)99％的離子。自來(lái)水也含有微量金屬，溶解的氣體（如CO2）和其它必須在工業(yè)處理中去除的弱離子化的化合物（如硅和硼）。RO出水（EDI進(jìn)水）一般為4—30μ/cm（電導(dǎo)），也就是電阻率為50—250KΩ·cm。根據(jù)不同需要，超純水或去離子水一般電導(dǎo)為2—18.2MΩ·cm。Electropure的EDI通過(guò)用氫離子或氫氧根離子將它們交換并將它們送至濃水流中除去它們。交換反應(yīng)在模塊的純化學(xué)室進(jìn)行，在那里陰離子交換樹(shù)脂用它們的氫氧根據(jù)離子（OH）來(lái)交換溶解鹽中的陰離了（如氯離子C1）。相應(yīng)地，陽(yáng)離子交換樹(shù)脂用它們的氫離子（H）來(lái)交換溶解鹽中的陽(yáng)離子（如Na）。在位于模塊兩端的陽(yáng)極（ ）和陰極（—）之間加一直流電場(chǎng)。電勢(shì)就使交換到樹(shù)脂上的離子沿著樹(shù)脂粒的表面遷移并通過(guò)膜進(jìn)入濃水室。陽(yáng)極吸引負(fù)電離子（如OH，CI）這些離子通過(guò)陰離子膜進(jìn)入相臨的濃水流卻被陽(yáng)離子選擇膜阻隔，從而留在濃水流中。陰極吸引純水流中的陽(yáng)離子（如H，Na）。這些離子穿過(guò)陽(yáng)離子選擇膜，進(jìn)入相臨的濃水流卻被陰離子膜陰隔，從而留在濃水流中。當(dāng)水流過(guò)這兩種平行的室時(shí)，離子在純水室被除去并在相臨的濃水流中聚積，然后由濃水流將其從模塊中帶走。在純水及濃水中離子交換樹(shù)脂的使用是ElectropupreEDI技術(shù)和專(zhuān)利的關(guān)鍵。一個(gè)重要的現(xiàn)象在純水室的離子交換樹(shù)脂中發(fā)生。在電勢(shì)差高的局部區(qū)域，電化學(xué)反應(yīng)分解的水產(chǎn)生大量的H和OH。在混床離子交換樹(shù)脂中局部H和OH的產(chǎn)生使樹(shù)脂和膜不需要添加化學(xué)藥品就可以持續(xù)再生。要使EDI處于最佳工作狀態(tài)、不出故障的基本要求就是對(duì)EDI進(jìn)水要求進(jìn)行適當(dāng)?shù)念A(yù)處理。進(jìn)水中的雜質(zhì)對(duì)去離子模塊有很大影響。并可能導(dǎo)致縮短模塊的壽命。EDI的進(jìn)水條件：EDI組件運(yùn)行結(jié)果取決于各種各樣的運(yùn)行條件。以下是保證EDI正常運(yùn)行的最低條件。為了使系統(tǒng)運(yùn)行效果更佳，系統(tǒng)設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)適當(dāng)提高這些條件。EDI（電除鹽）的優(yōu)點(diǎn)：1、不需要酸堿再生。電除鹽的操作是安全的，廢水的處理變得簡(jiǎn)單了。2、可連續(xù)生產(chǎn)。電除鹽的生產(chǎn)是連續(xù)的，免除了使用混床過(guò)程中復(fù)雜的再生操作，減少了很多備用設(shè)備。3、不需要處理廢酸堿。沒(méi)有廢酸堿的中和排放處理系統(tǒng)。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進(jìn)口（EDI中濃水量比純水少得多）。4、安裝條件簡(jiǎn)單。電除鹽在安裝時(shí)，占地面積小，大部分標(biāo)準(zhǔn)廠房都能滿足，對(duì)于較低的廠房，可以通過(guò)對(duì)電除鹽模塊的水平配置解決。5、系統(tǒng)設(shè)計(jì)簡(jiǎn)單。電除鹽的模塊設(shè)計(jì)很容易把它的流量做到450噸/小時(shí)甚至更高。6、運(yùn)行成本低。電除鹽系統(tǒng)與各種混床相比，在價(jià)格上有競(jìng)爭(zhēng)性。7、實(shí)用的設(shè)計(jì)。對(duì)于電除鹽系統(tǒng)，不管是維修還是增減設(shè)備的容量都是很容易的，必須要更換膜堆時(shí)，在現(xiàn)場(chǎng)只要花極少的停機(jī)時(shí)間就可以完成。8、安裝維修簡(jiǎn)便。電除鹽裝置允許通過(guò)對(duì)其他膜堆的流量重新分配而達(dá)到對(duì)某一個(gè)膜堆維修的要求，不改變系統(tǒng)的性能。一、純水和高純水水質(zhì)指標(biāo)和使用行業(yè)推薦：水質(zhì)指標(biāo)推薦使用行業(yè)電導(dǎo)率≤10μS/CM動(dòng)物飲用水(醫(yī)藥)、普通化工原料配料用水、食品行業(yè)配料用水普通電鍍行業(yè)沖洗用去離子水、紡織印染用除硬脫鹽純水、聚脂切片用純水、精細(xì)化工用水、民用飲用純凈水用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電導(dǎo)率≤4μS/CM電鍍化學(xué)品生產(chǎn)用水、化工行業(yè)表面活性劑生產(chǎn)用水、醫(yī)用純化水、白酒生產(chǎn)用純水、啤酒生產(chǎn)用純水、民用飲用純凈水用水、普通化妝品生產(chǎn)用水、血透純水機(jī)用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率5~10MΩ.CM鋰電池生產(chǎn)用水、蓄電池生產(chǎn)用水、化妝品生產(chǎn)用水、電廠鍋爐用純水、化工廠配料用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率:10~15MΩ.CM動(dòng)物實(shí)驗(yàn)室用水、玻殼鍍膜沖洗用水、電鍍用純水、鍍膜玻璃用水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率≥15 MΩ.CM醫(yī)藥生產(chǎn)用無(wú)菌水、口服液用水、高級(jí)化妝品生產(chǎn)用去離子水、電子行業(yè)鍍膜用水、光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、尖端磁性材料用純水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率≥17 MΩ.CM磁性材料鍋爐用軟化水、敏感新材料用水、半導(dǎo)體材料生產(chǎn)用水、尖端金屬材料用水、防老化材料實(shí)驗(yàn)室用水、有色金屬，貴金屬冶煉用水、鈉米級(jí)新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)用水、水晶片生產(chǎn)用水、超純化學(xué)試劑生產(chǎn)用水、實(shí)驗(yàn)室用高純水、其它有相同水質(zhì)要求的用水.電阻率≥18 MΩ.CMITO導(dǎo)電玻璃制造用水、化驗(yàn)室用水、電子級(jí)無(wú)塵布生產(chǎn)用水等其它有相同水質(zhì)要求的用水二、純水的制取方法：（出水電導(dǎo)率≤10μS/CM）1、預(yù)處理—— 陽(yáng)床—— 陰床（全離子交換法）2、預(yù)處理—— RO反滲透（反滲透法）三、工業(yè)超純水制造工藝：(出水電阻率5~18.2MΩ.CM) 1、預(yù)處理—— 陽(yáng)床—— 陰床—— 混合床 （全離子交換法） 2、預(yù)處理—— 反滲透—— 混合床 （反滲透 混床法） 3、預(yù)處理—— 反滲透—— EDI （反滲透 EDI法）四、設(shè)備說(shuō)明為滿足用戶需要，達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)，盡可能地減少各級(jí)的污染，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量.在工藝設(shè)計(jì)上，取達(dá)國(guó)家自來(lái)水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水，再設(shè)有介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等。系統(tǒng)中水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人職守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較，具有更高的性?xún)r(jià)比和設(shè)備可靠性。執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)：嚴(yán)格執(zhí)行現(xiàn)行的各種水處理標(biāo)準(zhǔn)（生活飲用水標(biāo)準(zhǔn)、實(shí)驗(yàn)室用水標(biāo)準(zhǔn)、電子工業(yè)部高純水標(biāo)準(zhǔn)等），不斷的在工藝設(shè)計(jì)和材料選擇上進(jìn)行改進(jìn)，以滿足先行的各種標(biāo)準(zhǔn)。